Geçtiğimiz yıllarda Tau 330 modeli için geliştirilmiş olan ve Pazar gereksinimleri gereği RSC platformu için “yeniden geliştirilen” Düşük Migrasyon (Low Migration) UV mürekkebi ile baskı uygulamaları Label Expo-2019 fuarı sırasında canlı olarak gösterilecektir. Pazardan gelen yüksek talep çerçevesinde Label Expo 2017 sırasında lanse edilen RSC platformunda da LM düşük migrasyon mürekkep kullanılması çalışmalarını tamamlayan DURST fuar sırasında RSC-E sistemi üzerinde söz konusu mürekkep kullanılan uygulamaları sergileyecektir. Bu yeni mürekkep seti, gıda ve ilaç ambalajları için EUPIA ve İsviçre Yönetmeliği düzenlemelerine uygunluk sağlamaktadır.
